權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)

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作者：張曉磊   北京品源專利代理有限公司

原標(biāo)題：淺談權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)

權(quán)利要求書(shū)是專利申請(qǐng)中最核心的部分，在撰寫(xiě)?yīng)毩?quán)利要求和從屬權(quán)利要求之前需要全面理解交底中的技術(shù)方案，明確針對(duì)解決的問(wèn)題所需要的必要技術(shù)特征，并且對(duì)非必要技術(shù)特征進(jìn)行分析，按照重要性進(jìn)行排序，從而使得撰寫(xiě)的獨(dú)立權(quán)利要求在具有新創(chuàng)性的前提下范圍大而合理，從屬權(quán)利要求層層遞進(jìn)。

一、引言

權(quán)利要求書(shū)是專利申請(qǐng)文件中最核心的組成部分，限定了專利申請(qǐng)文件的所要求的保護(hù)范圍，其撰寫(xiě)的結(jié)果應(yīng)該實(shí)現(xiàn)專利申請(qǐng)的目的，一是得到確定且穩(wěn)定的保護(hù)，二是盡可能得到最大范圍的保護(hù)?？梢哉f(shuō)，即獲得專利授權(quán)又得到最大范圍的穩(wěn)定保護(hù)才是專利申請(qǐng)的根本目的，也是權(quán)利要求撰寫(xiě)的宗旨。

二、權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)

權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)主要包括對(duì)技術(shù)方案的理解、獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫(xiě)和從屬權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)，其中技術(shù)方案的理解是寫(xiě)好權(quán)利要求書(shū)的關(guān)鍵所在，而獨(dú)立權(quán)利要求書(shū)是權(quán)利要求書(shū)中最重要的部分，接下來(lái)將從技術(shù)方案的理解、獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫(xiě)和從屬權(quán)利要求的撰寫(xiě)三個(gè)方面來(lái)進(jìn)行分析說(shuō)明。

1、技術(shù)方案的理解

在實(shí)際工作過(guò)程中，專利代理人在撰寫(xiě)?yīng)毩?quán)利要求時(shí)需要確定必要技術(shù)特征，為了確定必要技術(shù)特征，需要將交底書(shū)中發(fā)明人提供的內(nèi)容進(jìn)行充分的理解，以期從中摘出解決發(fā)明人提出的最基本技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案，也就是必要技術(shù)特征。但是專利代理人不應(yīng)當(dāng)僅僅根據(jù)發(fā)明人提供的背景技術(shù)自行判斷必要技術(shù)特征，因?yàn)橛袝r(shí)候發(fā)明人并不了解背景技術(shù)對(duì)于撰寫(xiě)人員來(lái)說(shuō)意味著什么，其提供的背景技術(shù)也不一定是最接近的現(xiàn)有技術(shù)。

因此，切忌在看完交底書(shū)后“自以為是”，而是應(yīng)當(dāng)基于發(fā)明人的發(fā)明意圖，找出符合該發(fā)明意圖的技術(shù)方案，并且與發(fā)明人進(jìn)行溝通。因此在溝通時(shí)需要明確以下幾個(gè)問(wèn)題：

1）.要解決的技術(shù)問(wèn)題。

2）.要解決上述技術(shù)問(wèn)題需要采用的技術(shù)方案，技術(shù)方案中那些技術(shù)特征是可以去除或者被替代，并且再次確定技術(shù)方案是否完整可行。

3）.確定哪個(gè)發(fā)明點(diǎn)是最核心的（針對(duì)于具有兩個(gè)以上發(fā)明點(diǎn)的情況）。

4）.針對(duì)具有兩個(gè)以上發(fā)明點(diǎn)的情況，需要確認(rèn)是否是可以拆解，突出一個(gè)還是看做一個(gè)整體。

5）.數(shù)量問(wèn)題，技術(shù)方案中涉及數(shù)量時(shí)，一定要確定比方案中提到的數(shù)量多或者少是否可行。

6）.細(xì)節(jié)問(wèn)題，比如：采用的某種結(jié)構(gòu)的類型或型號(hào)；除發(fā)明點(diǎn)之外的結(jié)構(gòu)有什么效果。

總的來(lái)說(shuō)，是在明確技術(shù)問(wèn)題、規(guī)避最接近的現(xiàn)有技術(shù)和突出核心發(fā)明點(diǎn)的基礎(chǔ)上，確定最終的技術(shù)方案，而不是僅僅根據(jù)基于發(fā)明人提供的交底來(lái)確定技術(shù)問(wèn)題和技術(shù)方案，避免出現(xiàn)遺漏技術(shù)方案，偏離發(fā)明點(diǎn)的情況。

舉例：技術(shù)方案包括A+B，A單獨(dú)針對(duì)一個(gè)問(wèn)題，具有一定的效果，A+B針對(duì)另一個(gè)問(wèn)題，具有一定的效果。這時(shí)就需要針對(duì)檢索結(jié)果和與發(fā)明人溝通來(lái)確定獨(dú)權(quán)是針對(duì)A來(lái)寫(xiě)還是針對(duì)A+B來(lái)寫(xiě)。

在與發(fā)明人溝通之后，對(duì)整個(gè)交底書(shū)的內(nèi)容進(jìn)行整理。

1）.本申請(qǐng)要解決的問(wèn)題。（現(xiàn)有技術(shù)有哪些問(wèn)題）

2）.要解決上述問(wèn)題所采用的核心技術(shù)方案（發(fā)明點(diǎn)）。

3）.除核心技術(shù)方案外的其他技術(shù)方案（附加點(diǎn)）。

2、獨(dú)立權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)

獨(dú)立權(quán)利要求是權(quán)利要求書(shū)中最重要的權(quán)項(xiàng)，其限定了專利申請(qǐng)文件所要求的最大的保護(hù)范圍。在專利申請(qǐng)中，獨(dú)立權(quán)利要求具有舉足輕重的地位，因此專利代理人應(yīng)注重獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫(xiě)質(zhì)量。

結(jié)合《中華人民共和國(guó)專利法》、《中華人民共和國(guó)專利法實(shí)施細(xì)則》及《專利審查指南》（2010版）中關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的相關(guān)規(guī)定，獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)至少滿足下列要求：

1）.清楚、簡(jiǎn)要的限定獨(dú)立權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范圍。

2）.從整體上反映發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，記載解決技術(shù)問(wèn)題的全部必要技術(shù)特征；

3）.具有新穎性和創(chuàng)造性。

其中，必要技術(shù)特征時(shí)指為解決技術(shù)問(wèn)題所必不可缺少的技術(shù)特征，其總和足以構(gòu)成發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案。在撰寫(xiě)?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，必須將解決通過(guò)檢索結(jié)果和發(fā)明人溝通確認(rèn)后的技術(shù)問(wèn)題的核心的區(qū)別技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求內(nèi)。這些區(qū)別技術(shù)特征是使得獨(dú)立權(quán)利要求具備新創(chuàng)性的關(guān)鍵。

對(duì)于除上述區(qū)別技術(shù)特征之外的某個(gè)技術(shù)特征可通過(guò)排出法來(lái)確定其是否為必要技術(shù)特征。即若將某個(gè)技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求中，獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)方案能解決所要解決的技術(shù)問(wèn)題，而不將這個(gè)技術(shù)特征放入獨(dú)立權(quán)利要求中，獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)方案不能解決所要解決的技術(shù)問(wèn)題，那么這個(gè)技術(shù)特征就是必要技術(shù)特征。當(dāng)然，對(duì)于兩個(gè)相互關(guān)聯(lián)，協(xié)作的技術(shù)特征可考慮同時(shí)放入獨(dú)立權(quán)利要求中來(lái)進(jìn)行判斷。

在確定出所有的必要技術(shù)特征后，就能開(kāi)始撰寫(xiě)?yīng)毩?quán)利要求，這時(shí)需要注意的問(wèn)題就是：獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍。發(fā)明人總是希望專利申請(qǐng)能夠獲得最大的保護(hù)范圍，而作為代理人，應(yīng)當(dāng)在保持具有新創(chuàng)性的前提下盡量寫(xiě)出一個(gè)保護(hù)范圍較大的獨(dú)立權(quán)利要求。因此，在進(jìn)行獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫(xiě)時(shí)，不能僅限于發(fā)明人提供的具體實(shí)施方式，因?yàn)榘l(fā)明人在交底書(shū)中提供的一般是最佳的實(shí)施方式，但是并不代表是唯一的實(shí)施方式。

具體在撰寫(xiě)時(shí)，對(duì)于某一個(gè)必要技術(shù)特征，首先要分析其是否能被替代，也就是其他類似的結(jié)構(gòu)或特征能否達(dá)到相近或相同的效果，如果有，就需將這個(gè)必要技術(shù)特征進(jìn)行上位概括，但是上位概括一定要合理，切不可導(dǎo)致該必要技術(shù)特征喪失區(qū)別性，如果是，則不能對(duì)該必要技術(shù)特征進(jìn)行上位概括?？偟膩?lái)說(shuō)，獨(dú)立權(quán)利要求盡量做到“范圍大而合理”，判斷撰寫(xiě)的獨(dú)立權(quán)利要求是否合理的一個(gè)參考準(zhǔn)則是：“大部分的從屬權(quán)利要求都可以通過(guò)引用獨(dú)立權(quán)利要求來(lái)進(jìn)行撰寫(xiě)”。

在撰寫(xiě)出保護(hù)范圍合理且具備一定新穎性和創(chuàng)造性的獨(dú)立權(quán)利要求后，還需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)行反復(fù)斟酌，刪掉與解決的技術(shù)問(wèn)題沒(méi)有直接關(guān)系的技術(shù)特征，去除不必要的限定或者限制，使得獨(dú)立權(quán)利要求簡(jiǎn)潔、嚴(yán)謹(jǐn)、完整。

因此，獨(dú)立權(quán)利要求撰寫(xiě)時(shí)后需要注意一下問(wèn)題：

1）.是否具有新創(chuàng)性；

2）.是否能夠解決所要解決的技術(shù)問(wèn)題；

3）.是否存在非必要技術(shù)特征；

4）.是否進(jìn)行了合理的上位；

5）.技術(shù)方案是否清楚，是否存在歧義；

6）.語(yǔ)句是否簡(jiǎn)潔精煉。

3、從屬權(quán)利要求書(shū)的撰寫(xiě)

從屬權(quán)利要求又稱“從屬權(quán)項(xiàng)”，是跟隨獨(dú)立權(quán)利要求之后，用附加的技術(shù)特征對(duì)引用的權(quán)利要求（包括獨(dú)立或從屬權(quán)利要求）進(jìn)一步限定的權(quán)利要求。從屬權(quán)利要求是獨(dú)立權(quán)利要求的下位權(quán)利要求，是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求改進(jìn)，本身必定落入獨(dú)立權(quán)利保護(hù)范圍之內(nèi)，但通過(guò)增加新的技術(shù)特征進(jìn)一步優(yōu)化和限定獨(dú)立權(quán)利要求。因此，從屬權(quán)利要求的作用在于：在審批程序中為針對(duì)新穎性、創(chuàng)造性的審查意見(jiàn)提供答復(fù)的回旋余地；在無(wú)效程序中形成專利權(quán)人的多道防線；限定一些比較有商業(yè)應(yīng)用價(jià)值的具體技術(shù)方案，從而在侵權(quán)訴訟和許可證貿(mào)易使專利權(quán)人十分有利。

綜上，從屬權(quán)利要求主要具有兩種類型：一種是對(duì)所引用的權(quán)利要求（獨(dú)權(quán)或從權(quán)）中已有的技術(shù)特征進(jìn)行進(jìn)一步限定或者解釋說(shuō)明；一種是在所引用的權(quán)利要求（獨(dú)權(quán)或從權(quán)）的基礎(chǔ)上增加新的技術(shù)特征。也就是說(shuō)，一部分從屬權(quán)利要求為對(duì)獨(dú)立要求書(shū)的技術(shù)特征的進(jìn)一步限定，是對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征進(jìn)行下位的解釋；另一部分從屬權(quán)利要求是在獨(dú)立權(quán)利要求的基礎(chǔ)上增加新的技術(shù)特征，解決更多的技術(shù)問(wèn)題，將新的技術(shù)特征與獨(dú)立權(quán)利要求的必要技術(shù)特征結(jié)合構(gòu)成一個(gè)新的技術(shù)方案。

一般來(lái)說(shuō)，新增加的技術(shù)特征對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求的創(chuàng)造性貢獻(xiàn)較大，可以考慮優(yōu)先撰寫(xiě)，當(dāng)新增加的技術(shù)特征有多個(gè)時(shí)，可按照對(duì)創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的大小進(jìn)排序。當(dāng)從屬權(quán)利要求書(shū)中沒(méi)有增加新的技術(shù)特征時(shí)，可根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)特征的重要性進(jìn)行排序，比如獨(dú)立權(quán)利要求包括A+B+C，重要性A>B>C,從權(quán)的順序可以為對(duì)A的進(jìn)一步的限定、對(duì)B的進(jìn)一步限定，最后是對(duì)C的進(jìn)一步限定。

因此，從屬權(quán)利要求撰寫(xiě)時(shí)需要注意一下問(wèn)題：

1）.每個(gè)從屬權(quán)利要求記載的技術(shù)特征是否構(gòu)成一個(gè)完整的技術(shù)方案，技術(shù)方案是否合理有效；

2）.每個(gè)從屬權(quán)利要求是否進(jìn)行了合理的上位；

3）.相對(duì)于其引用的權(quán)利要求是否重復(fù)限定；

4）.每個(gè)從屬權(quán)利要求是否對(duì)應(yīng)有一定的效果；

5）.從權(quán)的布局、梯度是否合理。

三、舉例說(shuō)明

如圖1所示，將內(nèi)嵌式攝像頭設(shè)計(jì)為彈出式，并且能夠進(jìn)行180°的旋轉(zhuǎn)，具體為電磁鐵通電對(duì)磁鐵產(chǎn)生吸力將卡塊從安裝座內(nèi)吸出使得攝像頭伸出，并且在電磁鐵斷電后通過(guò)小彈簧的彈力使得卡塊又卡接于安裝座，將攝像頭限制在凹槽內(nèi)。

分析交底的內(nèi)容并且與發(fā)明人溝通之后確認(rèn)要解決的技術(shù)問(wèn)題：現(xiàn)有的如筆記本電腦的攝像頭都是內(nèi)嵌式固裝在顯示器上，不可進(jìn)行調(diào)整。若要實(shí)現(xiàn)攝像頭可進(jìn)行調(diào)整，則首先攝像頭得可伸出凹槽，隨后可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，對(duì)應(yīng)地?cái)z像頭能夠伸出就得能夠回縮，也就是攝像頭被某種結(jié)構(gòu)限制在凹槽內(nèi)，解除限制時(shí)攝像頭可伸出。因此，必要技術(shù)特征就包括：攝像頭、電磁鐵、磁鐵、卡塊、小彈簧、安裝座、彈簧。非必要技術(shù)特征包括：轉(zhuǎn)軸、固定柱、隨后分析上述的必要技術(shù)特征是否能夠進(jìn)行合并或分解，并進(jìn)行合理的上位，攝像頭能夠180°轉(zhuǎn)動(dòng)需要安裝座，則只需考慮安裝座的限位和伸出即可，彈簧的作用使得安裝座能夠彈出，但是能夠使得安裝座伸出的結(jié)構(gòu)并不是只有彈簧，因此彈簧可進(jìn)行上位，比如彈出組件。卡塊、小彈簧及電磁鐵的共同作用是將安裝座鎖定或者放開(kāi)，因此他們可以看做一個(gè)整體進(jìn)行上位。比如限位結(jié)構(gòu)。

則相應(yīng)的獨(dú)立權(quán)利要求就可以寫(xiě)成：

一種攝像頭結(jié)構(gòu)，包括攝像頭和承載所述攝像頭的本體，所述本體上設(shè)置有凹槽，所述攝像頭收容于所述凹槽內(nèi)，其特征在于，所述攝像頭結(jié)構(gòu)還包括：

安裝座，活動(dòng)設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述攝像頭能夠轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于所述安裝座上；及限位結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述限位結(jié)構(gòu)能夠鎖定或放開(kāi)所述安裝座；及彈出組件，連接于所述安裝座與所述凹槽之間，能夠在所述安裝座被放開(kāi)后將所述攝像頭彈出所述凹槽。

其中，“其特征在于”前面的部分為前序部分。

獨(dú)立權(quán)利要求撰寫(xiě)完成后，相應(yīng)的從屬權(quán)利要求就是對(duì)限位結(jié)構(gòu)、彈出組件及非必要技術(shù)特征等內(nèi)容的撰寫(xiě)。按照對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求新創(chuàng)性的貢獻(xiàn)進(jìn)行分析，限位結(jié)構(gòu)>彈出組件和非必要技術(shù)特征。

綜上分析，從屬權(quán)利要求首先對(duì)限位結(jié)構(gòu)進(jìn)行進(jìn)一步的限定，隨后在對(duì)彈出組件和非必要技術(shù)特征進(jìn)行限定。在上述分析時(shí)，限位結(jié)構(gòu)由卡塊、小彈簧和電磁鐵構(gòu)成，也就是說(shuō)卡塊、小彈簧和電磁鐵構(gòu)成一個(gè)完整的技術(shù)方案，但是從屬權(quán)利要求也應(yīng)當(dāng)進(jìn)行一定的上位，因此可將三者進(jìn)行分解、合并，由于電磁鐵和小彈簧共同作用來(lái)使得卡塊和安裝座卡接或脫離卡接，因此卡塊單獨(dú)可上位成限位結(jié)構(gòu)，小彈簧和電磁鐵可上位成驅(qū)動(dòng)件。

圖1

四、總結(jié)

權(quán)利要求書(shū)是專利申請(qǐng)中最核心的部分，在撰寫(xiě)?yīng)毩?quán)利要求和從屬權(quán)利要求之前需要全面理解交底中的技術(shù)方案，明確針對(duì)解決的問(wèn)題所需要的必要技術(shù)特征，并且對(duì)非必要技術(shù)特征進(jìn)行分析，按照重要性進(jìn)行排序，從而使得撰寫(xiě)的獨(dú)立權(quán)利要求在具有新創(chuàng)性的前提下范圍大而合理，從屬權(quán)利要求層層遞進(jìn)。

來(lái)源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：張曉磊   北京品源專利代理有限公司

編輯：IPRdaily趙珍          校對(duì)：IPRdaily縱橫君

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