企業(yè)老板對專利的幾個誤區(qū)

#本文僅代表作者觀點，不代表IPRdaily立場，未經作者許可，禁止轉載#

來源：IPRdaily（iprdaily.cn）

作者：浩然鴻鵠

原標題：企業(yè)老板對專利的幾個誤區(qū)

本文，筆者總結了在企業(yè)知識產權工作中經常遇到的專利的幾個誤區(qū)，以幫助企業(yè)老板深入了解專利，順利走出誤區(qū)。

企業(yè)老板或多或少對專利有些了解，至少都聽說過專利這回事兒。但是由于企業(yè)老板對專利的了解不夠深入，企業(yè)老板對專利存在許多誤區(qū)。

誤區(qū)一：

自己申請了關于A產品（或技術）的專利，競爭對手的A產品（或技術）一定侵犯自己的專利權。

這個認識是錯誤的。侵不侵權是以產品（或技術）和專利的技術特征對比為前提的，只有自己專利的權利要求記載的技術特征被競爭對手的產品（或技術）全面覆蓋時，才會構成競爭對手的產品（或技術）侵犯自己的專利權，而不是僅僅只是從產品（或技術）名稱和專利名稱是否相似或相近來判斷。例如，自己申請了一個專利名稱為“汽車”的專利，該專利的某項權利要求記載了a、b、c三個技術特征，競爭對手生產的汽車并不一定侵犯自己的專利權。如果競爭對手生產的汽車具有a、b、c三個技術特征，則競爭對手生產的汽車侵犯自己的專利權；如果競爭對手生產的汽車只具有a、b，或a、c，或b、c，則競爭對手生產的汽車不會侵犯自己的專利權。

誤區(qū)二：

自己申請了關于A產品（或技術）的專利，則自己生產的A產品（或使用的A技術）一定不會侵犯別人的專利權。

這個認識也是錯誤的。首先，自己申請了關于A產品（或技術）的專利，但是在實際生產過程中，自己生產的產品（或使用的技術）并不一定是按照自己專利的權利要求書記載的技術方案來生產（或使用）的，則自己生產的A產品不落入自己專利的保護范圍，而有可能落入競爭對手專利的保護范圍，這種現象在化學組分發(fā)明專利方面尤為明顯。例如，自己申請了關于A產品的專利，該專利的某項權利要求記載了A包括60~70%的a，10-20%的b，10~20%的c，但是在實際生產中，由于實際生產需要，不斷調整工藝，最終的A產品包括71%的a、23%的b，6%的c，則自己生產的A產品不落入自己專利的保護范圍，而有可能落入競爭對手的專利的保護范圍（例如，如果競爭對手專利的某項權利要求記載了A包括65~75%的a，15~25%的b，0~10%的c）。

其次，即使自己申請了關于A產品（或技術）的專利，并且在實際生產過程中，自己生產的產品（或使用的技術）也是按照自己專利的權利要求書記載的技術方案來生產（或使用）的，但是由于自己專利的保護范圍小，競爭對手專利的保護范圍大，這樣自己的A產品既落入到自己專利的保護范圍，也落入到競爭對手專利的保護范圍，仍然侵犯競爭對手的專利權，這種現象在化學組分發(fā)明專利方面也尤為明顯。例如，如下圖所示：
 

大圈是競爭對手專利的保護范圍，小圈是自己專利的保護范圍。如果自己生產了產品A，則既落入到自己專利的保護范圍，也落入到競爭對手專利的保護范圍，仍然侵犯競爭對手的專利權。當然，如果競爭對手也是生產的產品A，則競爭對手也侵犯自己的專利權，如此就會形成交叉侵權。如果競爭對手生產產品B，只落入到競爭對手專利的保護范圍，沒有落入到自己專利的保護范圍，則競爭對手不侵犯自己的專利權，不構成交叉侵權。

誤區(qū)三：

自己申請了關于A產品（或技術）的專利，競爭對手在用專利起訴自己時，自己一定可以用自己的專利和競爭對手“對著干”。

這種認識也是錯誤的。很多企業(yè)老板知道專利是武器，在他們的眼里，專利就像和刀、槍一樣，在別人“干”自己的時候，就可以直接拿起專利“干”別人。這是一個很嚴重的誤區(qū)，導致很多企業(yè)老板以為申請了專利就萬事大吉了。在這里要強調的是，專利的確是武器，但是專利是自我保護的武器，是自衛(wèi)的武器，而非主動進攻的武器。怎么理解呢，也就是說，拿起專利“干”別人是有前提的，這個前提是別人的產品（或技術）落入到自己專利的保護范圍，侵犯了自己的專利權。如果競爭對手拿甲專利起訴了自己，自己如果要采用乙專利反訴，必須滿足的前提是，能夠收集到充足的證據證明競爭對手的產品（或技術）侵犯了自己的乙專利的專利權。如果競爭對手采用替代技術，繞開了自己的專利，或者自己的專利由于撰寫問題，保護范圍很小，對競爭對手抓不到侵權，是不能夠采用乙專利反訴的。

誤區(qū)四：

在判斷是否侵權時，拿自己的專利和競爭對手的專利作對比。

這樣的認識也是錯誤的。首先，專利是法律文書，不是實實在在的產品或技術，專利記載的技術方案，和實際生產采用的技術方案并不一定一致。其次，判斷是否侵權，一定是一個產品（或技術）和一個專利來對比，也就是說，判斷侵權的對象，一個是產品（或技術），另一個是專利，專利和專利之間的對比，只能判斷可能互相影響新穎性或創(chuàng)造性。

以上是筆者在企業(yè)知識產權工作中經常遇到的企業(yè)老板對專利的幾個誤區(qū)。其實，走出上述幾個誤區(qū)很簡單，只需要記住兩點：第一，判斷侵權的對象，一個是產品（或技術），另一個是專利；第二，判斷是否侵權，是以具體的產品（或技術）和專利做技術特征的對比而得出的（全面覆蓋原則）。

來源：IPRdaily中文網（iprdaiy.cn）

作者：浩然鴻鵠

編輯：IPRdaily王穎          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：企業(yè)老板對專利的幾個誤區(qū)（點擊標題查看原文）

如有想看文章主題內容，歡迎留言評論~

「關于IPRdaily」

IPRdaily是具有全球影響力的知識產權媒體，致力于連接全球知識產權與科技創(chuàng)新人才。匯聚了來自于中國、美國、歐洲、俄羅斯、以色列、澳大利亞、新加坡、日本、韓國等15個國家和地區(qū)的高科技公司及成長型科技企業(yè)的管理者及科技研發(fā)或知識產權負責人，還有來自政府、律師及代理事務所、研發(fā)或服務機構的全球近100萬用戶（國內70余萬+海外近30萬），2019年全年全網頁面瀏覽量已經突破過億次傳播。

（英文官網：iprdaily.com  中文官網：iprdaily.cn） 

本文來自IPRdaily中文網（iprdaiy.cn）并經IPRdaily.cn中文網編輯。轉載此文章須經權利人同意，并附上出處與作者信息。文章不代表IPRdaily.cn立場，如若轉載，請注明出處：“http://islanderfriend.com/