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來源：IPRdaily

作者：關(guān)琳琳超凡知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)股份有限公司

原標(biāo)題：服刑人員獲得發(fā)明專利予以減刑合法么？

IPRdaily導(dǎo)讀：11月14日,最高人民法院公布了《最高人民法院關(guān)于辦理減刑、假釋案件具體應(yīng)用法律的規(guī)定》（2017年1月1日開始施行）。該規(guī)定的第五條第一款（四）規(guī)定：“有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新的”應(yīng)當(dāng)認(rèn)定為有“重大立功表現(xiàn)”。該規(guī)定一出臺，令許多關(guān)注中國知識產(chǎn)權(quán)制度的外國學(xué)者較為詫異，國內(nèi)知識產(chǎn)權(quán)學(xué)者也深感意外。

11月14日,最高人民法院公布了《最高人民法院關(guān)于辦理減刑、假釋案件具體應(yīng)用法律的規(guī)定》（2017年1月1日開始施行）。

該規(guī)定的第五條第一款（四）規(guī)定：“有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新的”應(yīng)當(dāng)認(rèn)定為有“重大立功表現(xiàn)”。此項中的“發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新應(yīng)當(dāng)是罪犯在刑罰執(zhí)行期間獨(dú)立或者為主完成并經(jīng)國家主管部門確認(rèn)的發(fā)明專利”，但明確規(guī)定“且不包括實用新型專利和外觀設(shè)計專利。”該規(guī)定一出臺，令許多關(guān)注中國知識產(chǎn)權(quán)制度的外國學(xué)者較為詫異，國內(nèi)知識產(chǎn)權(quán)學(xué)者也深感意外。

此前，已有多件服刑人員通過發(fā)明創(chuàng)造和技術(shù)革新而立功進(jìn)而獲得減刑的事情發(fā)生。中國足協(xié)原副主席南勇，因受賄罪被判刑10年6個月，但由于他在服刑期間申請發(fā)明專利4件，還出版了12萬字的小說，由此獲得了減刑。雖然北京第二中級人民法院審監(jiān)庭庭長張素蓮表示：“南勇減刑中，發(fā)明創(chuàng)造并不是決定性因素?！钡浒l(fā)明專利確實也是給他的減刑加了分。

另外，據(jù)北京青年報報道，浙江省奉化市衛(wèi)生局原黨委書記梁劍興在入獄6年左右的時間里，共有11項發(fā)明獲得國家專利，因其表現(xiàn)良好，于2011年獲得減刑一年零三個月。除此之外，還有四川省某市交通局原副局長樓衛(wèi)剛、北京市國土資源地?zé)崽幵庨L陳建平、石嘴山監(jiān)獄服刑人員因發(fā)明專利獲減刑等陸續(xù)被報道。

實際上，服刑人員可因獲得發(fā)明專利減刑并非前述規(guī)定新創(chuàng)的規(guī)則。發(fā)明專利與減刑的關(guān)系，始于上個世紀(jì)80年代。1989年最高人民法院印發(fā)的《全國法院減刑、假釋工作座談會紀(jì)要》中，將服刑人員“在生產(chǎn)中有發(fā)明創(chuàng)造，重大技術(shù)革新”作為“重大立功”的表現(xiàn)之一，作為可以減刑的條件【1】。

我國現(xiàn)行刑法第78條規(guī)定減刑的適用條件為：“被判處管制、拘役、有期徒刑、無期徒刑的犯罪分子，在執(zhí)行期間，如果認(rèn)真遵守監(jiān)規(guī)，接受教育改造，確有悔改表現(xiàn)的，或者有立功表現(xiàn)的，可以減刑；有下列重大立功表現(xiàn)之一的，應(yīng)當(dāng)減刑：……（三）有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新的……”。就何為“發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新”我國刑法中并沒有對其作進(jìn)一步細(xì)化。根據(jù)專利法，發(fā)明創(chuàng)造包括發(fā)明、實用新型、外觀設(shè)計。因此，從字面上看，獲得專利就可認(rèn)定為“有發(fā)明創(chuàng)造”。

發(fā)明專利減刑規(guī)則的原意是保障服刑人員人身自由以外的人權(quán)，尤其是憲法第47條規(guī)定的科學(xué)研究的權(quán)利，鼓勵被剝奪自由的人進(jìn)行發(fā)明創(chuàng)造與技術(shù)革新，進(jìn)而推動科技創(chuàng)新與進(jìn)步，并且為服刑人員再次融入社會提供物資基礎(chǔ)與精神支撐。因此，什么樣的“發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新”才能被認(rèn)定為刑法規(guī)定的有“重大立功表現(xiàn)”，需要在實踐中予以明確和細(xì)化。

最高人民法院在有關(guān)司法解釋中將獲得發(fā)明專利作為有重大立功表現(xiàn)的情況之一無可厚非。然而，在發(fā)明專利審查標(biāo)準(zhǔn)不夠嚴(yán)格，個別不法分子與服刑人員勾結(jié)的情況下，不排除有人“制造”發(fā)明專利申請獲得授權(quán)幫助服刑人員減刑的情況，從而使該制度被濫用和扭曲。

因此國家有關(guān)部門要嚴(yán)格把控發(fā)明專利審查標(biāo)準(zhǔn)，嚴(yán)厲打擊 “制造”發(fā)明專利的行為，尤其是專利代理人員與服刑人員勾結(jié)的情況。

此外，監(jiān)獄的環(huán)境并不利于服刑人員潛心創(chuàng)造，如果真正要使該規(guī)則達(dá)到預(yù)期目的，對一些具有發(fā)明創(chuàng)造能力的服刑人員提供所需資料和研究條件也是必要的。

注釋：

【1】：姜浩峰《落馬者的“中國式越獄”》決策探索 2015年第6期第78頁

來源：IPRdaily

作者：關(guān)琳琳超凡知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)股份有限公司

編輯：IPRdaily趙珍校對：IPRdaily縱橫君

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服刑人員獲得發(fā)明專利予以減刑，早有先例？