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原標題:9272萬元專利侵權案!電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)?。ǜ剑号袥Q書)
近日,國內(nèi)知名電磁屏蔽膜產(chǎn)品制造商廣州方邦電子股份有限公司被電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模最大的日本企業(yè)大自達電線股份有限公司起訴專利權侵權案二審在廣東高級人民法院審理結束。廣東高級人民法院最終判決維持一審原判,駁回大自達公司的全部訴訟請求。據(jù)了解,由于涉案雙方均是業(yè)界知名企業(yè),且該案索賠額達9272萬元,數(shù)額巨大,該案自立案起就受到廣泛關注,因為該案的典型意義及影響,此案一審也被收錄為2017廣州法院知識產(chǎn)權十大典型案例之一。
一、案情簡介
大自達電線股份有限公司(以下簡稱大自達公司)和廣州方邦電子股份有限公司(以下簡稱方邦公司)均是電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模排名前三的企業(yè)。
2017年1月6日,因認為廣州方邦電子股份有限公司(下稱方邦公司)生產(chǎn)銷售的屏蔽膜產(chǎn)品侵犯其200880101719.7號發(fā)明專利,方邦電子的競爭對手大自達電線股份有限公司在廣州知識產(chǎn)權法院起訴方邦電子專利侵權。
大自達公司是涉案“印刷布線板用屏蔽膜以及印刷布線板”發(fā)明專利的權利人。大自達公司認為方邦公司制造、銷售的8款屏蔽膜產(chǎn)品侵害其涉案發(fā)明專利權,據(jù)此起訴請求判令方邦公司承擔停止侵權、賠償經(jīng)濟損失9200萬元、合理維權支出72萬元等民事責任。
廣州知識產(chǎn)權法院經(jīng)過證據(jù)保全、傳喚鑒定人、開庭審理、咨詢技術調(diào)查官等合法程序,平等對待國內(nèi)外當事人,依法保護雙方在訴訟中的權利,公正審慎地進行審理。經(jīng)審理后于2017年7月21日作出一審判決,認定被訴侵權產(chǎn)品未落入涉案專利的權利要求保護范圍,方邦公司不構成侵權,駁回原告大自達公司的全部訴訟請求,并由大自達公司負擔案件受理費50.54萬元。
大自達公司不服,向廣東省高級人民法院提起上訴。
2018年3月26日,廣東高院就該案作出二審判決,駁回大自達公司上訴,維持一審原判。
二、案件關鍵點梳理
雙方當事人除了對被訴侵權產(chǎn)品所涉第一金屬層是否以波紋結構的方式形成這一技術特征存在爭議外,對于被訴侵權產(chǎn)品具有其他被訴技術特征并無異議。
因此如何解釋該特征并進而明確涉案專利權的邊界是本案的關鍵點。
經(jīng)查明,涉案發(fā)明專利申請時在提交了原始申請文件后對權利要求進行了修改,將涉案爭議特征從“第一金屬層以沿著所述絕緣層的單面表面成為波紋結構的方式形成”修改為“第一金屬層的兩面沿著所述絕緣層的單面表面形成”。國家知識產(chǎn)權局對此發(fā)出審查意見通知書,指出原申請文件僅記載了波紋結構的第一金屬層和大致平坦結構的第一金屬層兩種實施例,沒有給出第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結構等內(nèi)容,認為申請人的修改超出了原說明書和權利要求書記載的范圍;同時要求申請人再次修改時應對通知書中提出的所有問題逐一詳細地作出說明。
于是,申請人將涉案爭議特征再次修改成“所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結構的方式形成”;并稱通過上述修改,權利要求記載技術方案與原說明書記載的內(nèi)容一致。之后,涉案專利申請獲得授權。
一審法院認為,在涉案專利申請文件審查過程中,國家知識產(chǎn)權局專門指出申請人修改后的涉案爭議特征除了第一金屬層以波紋結構的方式形成外還包含了第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結構,該部分修改超出了原申請文件記載范圍。
基于此,若申請人不接受上述審查意見,應當逐一詳細作出相應的解釋和說明;但申請人同意審查意見并對權利要求再次修改,對審查意見未作任何反駁。
因此,根據(jù)上述涉案專利審查的過程及內(nèi)容,結合涉案專利說明書、附圖以及工具書、教科書等公知文獻,法院認定涉案專利爭議特征第一金屬層的波紋結構應解釋為不應當包括隨機變化的、無規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結構。
而方邦公司制造、銷售的屏蔽膜產(chǎn)品的第一金屬層的結構是隨機變化的、無規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結構,因此不落入涉案發(fā)明專利權的保護范圍。
三、案件啟示
我國經(jīng)濟已經(jīng)由高速增長階段轉向高質(zhì)量發(fā)展階段,其中重點之一就是要在高科技的關鍵領域實現(xiàn)核心技術的自主創(chuàng)新和突破。中國的高科技企業(yè)在彎道超車的過程中必然會遭遇國際跨國巨頭的阻擊。因此,中國的高科技企業(yè)除了在自主創(chuàng)新上要加大投入外,如何應對國際跨國巨頭的打壓也是非常重要的課題。
本案訴訟的結果回答了在電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模排名靠前的中國企業(yè)制造、銷售的產(chǎn)品中使用的核心技術是屬于我國企業(yè)自主創(chuàng)新還是侵害日本企業(yè)發(fā)明專利權的問題,該案結果將給全球相關行業(yè)格局帶來深遠影響。更重要的是,該案將給中國的高科技企業(yè)如何應對國際跨國巨頭提起的專利訴訟提供非常有益的借鑒和參考。
就本案來說,法院在審理中對于發(fā)明專利權利要求的爭議技術特征進行解釋時,除了運用說明書、附圖及其他相關權利要求以外,還結合專利審查檔案進行解釋。
通過審查專利審查檔案的內(nèi)容,可以明確申請人在專利申請過程中對于專利權保護范圍所作的真實意思表示與客觀行為,確定國家知識產(chǎn)權局與申請人在劃定專利權邊界上達成了何種一致的意見,并對社會公眾形成了何種公示作用,從而使法院認定的專利權保護范圍符合專利權產(chǎn)生時所公示的邊界,符合國家授予、保護這種專有性、壟斷性權利的初衷,如此才能為社會公眾提供明確的法律預期,避免不當壓縮社會公眾對于公有技術自由運用的空間。
與此相對應的,在申請發(fā)明專利的過程中,申請人如不接受相關審查意見,應當詳細地做出相應說明回應,或者在進一步修改時清晰、合理地對相關技術特征進行限定或解釋;在接受相關審查意見獲得專利授權后,權利人卻在侵權訴訟中主張與申請時所同意的審查意見相左的意見,顯然有違誠實信用原則,不應得到法院的支持。
附:判決書全文
來源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)
編輯:IPRdaily趙珍 校對:IPRdaily縱橫君
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