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科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

深度
灣區(qū)知識產(chǎn)權(quán)6年前
科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

#文章由作者授權(quán)發(fā)布,未經(jīng)作者允許,禁止轉(zhuǎn)載,不代表IPRdaily立場#


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評估

原標(biāo)題:科創(chuàng)板上市企業(yè)專利深度解析之——安集微電子


科技創(chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù),以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專利,是企業(yè)核心競爭力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中,存在哪些競爭對手,各個競爭對手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場區(qū)域的專利布局,以及專利申請的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來可能面臨的競爭和應(yīng)對能力。除此之外,結(jié)合行業(yè)和競爭對手的專利布局和研發(fā)動向分析,企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識產(chǎn)權(quán)分析帶來全新的視角。


2019年6月13日中國證監(jiān)會和上海市政府聯(lián)合舉辦了上海證券交易所科創(chuàng)板的開板,首批科創(chuàng)板上市公司也有望在7月22日上市。截至7月4日,已受理141家公司提交的發(fā)行上市申請,向118家公司發(fā)出了首輪問詢函,科創(chuàng)板股票上市委員會已審議通過31家公司的發(fā)行上市申請,已有25家公司獲得證監(jiān)會同意注冊的批復(fù)。由于科創(chuàng)板上市企業(yè)的披露的基本內(nèi)容并不明朗,甚至出現(xiàn)“過會”后被撤回的現(xiàn)象。審議通過的企業(yè),在招股說明書中即使披露了企業(yè)核心技術(shù)、專利數(shù)量等情況,但是對于各級機(jī)關(guān)以及普通股民來講,也很難進(jìn)一步了解專利真實(shí)價值以及專利價值背后深層次的信息,比如核心技術(shù)布局專利好壞、專利質(zhì)量的高低對企業(yè)的影響。


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

安集微電子


本文以科創(chuàng)板首批上市企業(yè)安集微電子為例,從專利的角度宏觀分析企業(yè)專利質(zhì)量、專利布局對企業(yè)核心技術(shù)的保護(hù)以及同領(lǐng)域的競爭對手情況,以為您提供更多參考。


專利申請


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析 


從申請時間來看:披露的專利為2005-2014年間申請并獲得授權(quán)的專利。其中絕大部分為2005-2010年間的申請,最早的申請至今維持年限已有14年,達(dá)到最大維持年限20年的剩余壽命為6-10年。


從申請的持續(xù)性來看:專利申請數(shù)量從2014年開始整體上有所下降,但每年仍有大約20項(xiàng)左右的申請,持續(xù)研發(fā)能力較好。


從專利類型來看:披露的190件專利均為發(fā)明專利,相對來講創(chuàng)新性較高。


從技術(shù)起源來看:主要為發(fā)行人自主持有,有少數(shù)控股公司的內(nèi)部轉(zhuǎn)讓,自主研發(fā)能力強(qiáng)。


從地域布局來看:發(fā)行人主要集中在中國大陸,這與公司產(chǎn)品本土化的特點(diǎn)相符,我們也可以看到發(fā)行人在臺灣也有大量布局,這與主要客戶之一臺積電密切相關(guān)。


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析 

核心技術(shù)對應(yīng)的專利保護(hù)


企業(yè)是否掌握具有自主知識產(chǎn)權(quán)的核心技術(shù),對于科技創(chuàng)新引領(lǐng)型企業(yè)至關(guān)重要。智信九鼎提出以專利分級的方式,結(jié)合同族和引證關(guān)系,獲得產(chǎn)品、技術(shù)對應(yīng)的核心專利,最終以專利組合來反映企業(yè)對自主知識產(chǎn)權(quán)核心技術(shù)的掌握情況。


安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機(jī)械拋光液的核心技術(shù)有五項(xiàng):金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù);涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項(xiàng):光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。其涉及的專利項(xiàng)數(shù)如下所示:


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析


根據(jù)公司產(chǎn)品的銷售情況來看,化學(xué)機(jī)械拋光液占比最大(其中銅及銅的阻擋層系列占比最大,但銷售占比下降明顯),其次為光刻膠去除劑。根據(jù)2016-2018年度的銷售數(shù)據(jù),化學(xué)機(jī)械拋光液的占比由2016年的89.75%下降到2018年的82.78%;而光刻膠去除劑的占比由2016年的9.87%上升到2018年的16.97%。由于近三年銷售情況的變化,顯示出光刻膠去除劑方面的市場需求的增長,在專利方面理應(yīng)做出更多的布局,安集微電子2015年在中國申請的專利共6件,由于專利申請后需要18個月才能公開,數(shù)據(jù)會存在誤差。


專利質(zhì)量的宏觀分析


專利質(zhì)量的分析一般可以分為宏觀分析和微觀分析,宏觀分析可通過一些著錄項(xiàng)目信息的統(tǒng)計(jì)來反映專利的整體質(zhì)量;微觀的專利分析應(yīng)當(dāng)分析專利的實(shí)際保護(hù)寬度、專利的可規(guī)避性和專利的穩(wěn)定性等。限于篇幅,本文僅介紹宏觀的專利質(zhì)量分析。


1、同族專利情況


安集微電子披露的190項(xiàng)專利經(jīng)過同族合并后實(shí)際為178項(xiàng),其中70項(xiàng)存在同族專利,占比39.3%,同族專利以臺灣地區(qū)布局為主,還涉及美國、新加坡、韓國。


2、專利引證


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析


一般來講,專利的被引證數(shù)量可以反映專利的重要程度。根據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示,安集微電子的專利家族的被引證中:101項(xiàng)被引證次數(shù)為0;被引證1-9次的專利項(xiàng)數(shù)63項(xiàng);被引證次數(shù)11-20次的專利項(xiàng)數(shù)為9項(xiàng);被引證次數(shù)20項(xiàng)以上的專利5項(xiàng),表明專利整體質(zhì)量較高。


此外專利的引證主體的實(shí)力也可以反映技術(shù)的重要程度。根據(jù)家族被引證專利申請人統(tǒng)計(jì)結(jié)果,共得到196家專利技術(shù)相關(guān)申請人,其中卡伯特微電子公司和CMP羅姆和哈斯電子材料控股公司的引證較多。


3、專利的權(quán)利要求數(shù)量


一般來說,專利的權(quán)利要求數(shù)量越多表明專利的質(zhì)量和穩(wěn)定性越高。據(jù)統(tǒng)計(jì),安集微電子的專利的平均權(quán)利要求數(shù)為10.8,超過了國內(nèi)專利申請額外收取費(fèi)用的限定值10,反映了專利的整體質(zhì)量較高。


4、說明書的長度


專利文件的頁數(shù)可以可以反映專利質(zhì)量的高低、對技術(shù)方案的披露的詳盡程度、實(shí)施例的豐富程度。據(jù)統(tǒng)計(jì),安集微電子的專利平均文獻(xiàn)頁數(shù)為9.12,略低于同領(lǐng)域的平均頁數(shù)9.6。


同領(lǐng)域的競爭對手


分別以拋光劑和光刻膠去除劑兩個技術(shù)主題進(jìn)行檢索,并對申請?zhí)栠M(jìn)行合并處理后,得到全球?qū)@赜蚍植?,專利申請量排名依次為美國、中國、韓國、日本、臺灣。


科創(chuàng)板上市企業(yè)“安集微電子”專利深度解析

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全球申請人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導(dǎo)體公司,可見安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國大陸的申請量也穩(wěn)居第一,但在臺灣地區(qū)的布局略遜色于臺灣半導(dǎo)體制造有限公司、聯(lián)電和基尼卡公司,所以在臺灣地區(qū)可能會遇到較大的競爭。


結(jié)語


目前科創(chuàng)板企業(yè)上市的披露要求還夠不完善。科技創(chuàng)新型企業(yè)是否掌握核心技術(shù),以及是否擁有足夠數(shù)量和質(zhì)量的專利,是企業(yè)核心競爭力的重要保障。在相同的技術(shù)領(lǐng)域中,存在哪些競爭對手,各個競爭對手的布局情況、企業(yè)在主要的目標(biāo)市場區(qū)域的專利布局,以及專利申請的持續(xù)性都揭示了企業(yè)未來可能面臨的競爭和應(yīng)對能力。除此之外,結(jié)合行業(yè)和競爭對手的專利布局和研發(fā)動向分析,企業(yè)在產(chǎn)業(yè)鏈上可能面臨的知識產(chǎn)權(quán)風(fēng)險(xiǎn)分析、自主掌握的核心專利的保護(hù)力度都將給科創(chuàng)板知識產(chǎn)權(quán)分析帶來全新的視角。


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

作者:賈年龍 譙勤    智信九鼎科技評估

編輯:IPRdaily王穎          校對:IPRdaily縱橫君


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