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IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?

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IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?

IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?

#本文僅代表作者觀點(diǎn),不代表IPRdaily立場#


“如何進(jìn)行系統(tǒng)性的高價(jià)值專利挖掘與布局?在企業(yè)經(jīng)營邏輯下如何制定適應(yīng)性的專利保護(hù)策略?敬請關(guān)注8月3日的第2期‘IPSUNSHINE創(chuàng)客季’線上直播活動(dòng)?!?/strong>


來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)


IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?


經(jīng)濟(jì)增長有很多引擎,但創(chuàng)新所帶來的技術(shù)進(jìn)步才是經(jīng)濟(jì)增長的根本動(dòng)力。


我國自建國以來,長期依靠引進(jìn)西方先進(jìn)技術(shù)刺激經(jīng)濟(jì)發(fā)展,這也導(dǎo)致經(jīng)濟(jì)發(fā)展存在技術(shù)制約。早期的技術(shù)引進(jìn)和低成本勞動(dòng)力所帶來的經(jīng)濟(jì)紅利,隨著我國與發(fā)達(dá)國家科研的技術(shù)差距縮小在不斷弱化,“自主技術(shù)創(chuàng)新”逐漸成為刺激我國經(jīng)濟(jì)可持續(xù)發(fā)展的關(guān)鍵因素,專利質(zhì)量、數(shù)量與轉(zhuǎn)化率也成為了科技自主創(chuàng)新的重要評價(jià)指標(biāo)。


國家經(jīng)濟(jì)發(fā)展正處于規(guī)模速度型向質(zhì)量效率型轉(zhuǎn)變的關(guān)鍵時(shí)期,大力發(fā)展“硬科技”,改變以往“重”模式、“輕”技術(shù)的創(chuàng)新現(xiàn)狀,加快產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級,發(fā)展和培育高端技術(shù)產(chǎn)業(yè),加速在技術(shù)領(lǐng)域、產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,特別是在知識(shí)產(chǎn)權(quán)領(lǐng)域上實(shí)現(xiàn)突破發(fā)展與價(jià)值進(jìn)化,才是企業(yè)發(fā)展的根本出路。


IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?


高價(jià)值專利是創(chuàng)新發(fā)展的重要課題


自20世紀(jì)80年代以來我國專利數(shù)量一直呈現(xiàn)幾何式增長,但整體專利質(zhì)量不高,科技成果轉(zhuǎn)化率相對較低,大眾缺乏專利申請與保護(hù)意識(shí),都對我國加速自主創(chuàng)新帶來不利影響。如何培育高價(jià)值專利、提升專利質(zhì)量成為擺在創(chuàng)新發(fā)展前的重要課題。


首先,基于技術(shù)層面,高價(jià)值專利項(xiàng)目并非全部是具有高度的復(fù)雜性與尖端性的技術(shù)項(xiàng)目,而是也可以在通用技術(shù)項(xiàng)目的基礎(chǔ)上,還具有承接性關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點(diǎn),具有較高發(fā)展前景與前瞻性技術(shù)特點(diǎn);


其次,基于經(jīng)濟(jì)層面,高價(jià)值專利技術(shù)需要具備良好的市場發(fā)展前景,在當(dāng)即或者預(yù)期可以獲得經(jīng)濟(jì)收益、市場競爭力與核心地位,以此可以構(gòu)筑牢固的技術(shù)壁壘,能夠制約競爭對手商業(yè)發(fā)展;


最后,基于法律層面,高價(jià)值專利技術(shù)文件需要通過實(shí)質(zhì)審查、無效宣告請求、侵權(quán)訴訟等一系列行政授權(quán)與民事訴訟程序的檢驗(yàn)與推敲。由此可見,高價(jià)值專利是具有技術(shù)含量高,專利文件質(zhì)量穩(wěn)定性高,保護(hù)范圍合理,且擁有良好發(fā)展前景與戰(zhàn)略部署的專利項(xiàng)目。


現(xiàn)階段,我國專利申請數(shù)量較多,但是專利質(zhì)量整體較低,尤其是高價(jià)值專利數(shù)量相對較少,科技成果轉(zhuǎn)化率低,專利價(jià)值整體較低,這些都是制約企業(yè)與產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。


另外,作為前沿技術(shù)創(chuàng)新主體的高校與科研機(jī)構(gòu)大多以科研為主導(dǎo)方向,科研考核機(jī)制很少納入專利申請、專利轉(zhuǎn)化指標(biāo),導(dǎo)致科研人員主攻方向是科研項(xiàng)目申報(bào)、論文發(fā)表、獎(jiǎng)項(xiàng)申報(bào)等,而輕視專利申報(bào)和保護(hù),更不會(huì)主動(dòng)對專利技術(shù)進(jìn)行成果轉(zhuǎn)化;或者因較少注重生產(chǎn)實(shí)踐技術(shù)問題的考察和調(diào)研,對課題的新穎性、先進(jìn)性和實(shí)用性考慮較少,產(chǎn)出的專利技術(shù)含量低或過于超前,都難以吸引投資和實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。


專利技術(shù)的成果轉(zhuǎn)化是較為復(fù)雜的過程,在專利技術(shù)轉(zhuǎn)化投入過程中需要耗費(fèi)巨大的人力、經(jīng)費(fèi)等,同時(shí)專利技術(shù)轉(zhuǎn)化過程中的潛在風(fēng)險(xiǎn),不穩(wěn)定性因素較多,都會(huì)導(dǎo)致專利技術(shù)轉(zhuǎn)化失敗,繼而暴露我國整體專利質(zhì)量就轉(zhuǎn)化維度上普遍偏低這一事實(shí)結(jié)果。


為高價(jià)值專利申請與轉(zhuǎn)化創(chuàng)造肥沃的土壤


一方面,我國企業(yè)在專利技術(shù)申請過程中往往會(huì)注重專利的技術(shù)的申請與國家的授權(quán)保護(hù),而忽視專利技術(shù)的價(jià)值挖掘,導(dǎo)致專利技術(shù)轉(zhuǎn)化率低,很多專利技術(shù)申請后束之高閣,導(dǎo)致大量資源的閑置甚至浪費(fèi)。因此,國家出臺(tái)了一系列的知識(shí)產(chǎn)權(quán)政策,激發(fā)企業(yè)對關(guān)鍵性技術(shù)、核心技術(shù)等專利技術(shù)的保護(hù)意識(shí)和管理制度進(jìn)行改革,引導(dǎo)中國企業(yè)對其申請的專利技術(shù)進(jìn)行價(jià)值深挖與成果轉(zhuǎn)化,使科研成果得到最大限度的利用。


另一方面,對于中小型企業(yè)而言,由于受到專業(yè)度、企業(yè)規(guī)模和技術(shù)方面的限制,在知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理方面常常存在著粗放、管理架構(gòu)不完善、知識(shí)產(chǎn)權(quán)質(zhì)量不高等一系列問題。


通過專業(yè)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)培訓(xùn)輔導(dǎo),滲透到知識(shí)產(chǎn)權(quán)創(chuàng)造、申請、審查、權(quán)利維持、專利實(shí)施/許可等重要生命周期,針對優(yōu)勢產(chǎn)品和技術(shù)進(jìn)行專利組合保護(hù),將知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理納入立項(xiàng)、生產(chǎn)、采購、銷售等每個(gè)環(huán)節(jié),提高企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息利用效率,為研發(fā)路線調(diào)整、產(chǎn)品上市、專利布局準(zhǔn)備提供強(qiáng)力支撐和推動(dòng)作用,從而提升知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理質(zhì)量,發(fā)揮出知識(shí)產(chǎn)權(quán)的重要價(jià)值。 


近年來我國知識(shí)產(chǎn)權(quán)事業(yè)特別是專利事業(yè)取得的顯著成就,是一個(gè)不斷發(fā)展、不斷總結(jié)和不斷完善的過程。高價(jià)值專利布局與培育工作,同樣也需要不斷總結(jié)和完善,分秒不可懈怠。


而落實(shí)到實(shí)務(wù)環(huán)節(jié),如何進(jìn)行系統(tǒng)性的高價(jià)值專利挖掘與布局?在企業(yè)經(jīng)營邏輯下如何制定適應(yīng)性的專利保護(hù)策略?敬請關(guān)注8月3日的第2期“IPSUNSHINE創(chuàng)客季”線上直播活動(dòng),歡迎大家積極參與與分享轉(zhuǎn)發(fā)!


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來源:IPRdaily中文網(wǎng)(iprdaily.cn)

編輯:IPRdaily王穎          校對:IPRdaily縱橫君


注:原文鏈接IPSUNSHINE創(chuàng)客季丨打破專利保護(hù)困局,科創(chuàng)型企業(yè)如何實(shí)施高價(jià)值專利培育布局?點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文)


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