思看科技IPO：NPE訴訟和專利授權被問詢

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“思看科技更新第二輪審核問詢函的回復?！?br/>

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）
作者：斐斐

7月1日，思看科技（杭州）股份有限公司（以下簡稱“思看科技”）在上海證券交易所科創(chuàng)板更新第二輪問詢回復，針對新增訴訟、核心技術、專利授權等問題進行重點回答。

據(jù)悉，思看科技于2023年6月在上交所更新招股書沖刺科創(chuàng)板IPO，目前狀態(tài)為”已問詢“。

問題一：NPE訴訟糾紛

思看科技是一家面向全球的三維視覺數(shù)字化綜合解決方案提供商，其主要產品為便攜式3D視覺數(shù)字化產品、跟蹤式3D視覺數(shù)字化產品、專業(yè)級彩色3D視覺數(shù)字化產品和工業(yè)級自動化3D視覺檢測系統(tǒng)等。

2023年10月12日，Patent Armory Inc.向美國得克薩斯州東部地區(qū)法院馬歇爾分區(qū)遞交起訴書，認為思看科技的IREAL產品侵犯編號為US7256899的專利以及SIMSCAN產品侵犯編號為US7336375的專利，請求法院判令該等專利的有效性及思看科技侵犯上述專利權，并要求判令思看科技賠償損失（但未明確主張損失金額）。

Patent Armory Inc.自2023年7月以來作為原告發(fā)起了逾80起訴訟案件，其被告包括TCL、騰訊、海信等公司在內的知名中國企業(yè)。并且，其發(fā)起的訴訟多數(shù)在起訴后2到6個月內和解，并未有任一案件進入實質審理程序。思看科技認為Patent Armory Inc.是一家明顯的非專利實施實體（NPE，Non-Practicing Entity）。

為節(jié)省境外訴訟成本，2024年1月，思看科技向Patent Armory Inc.支付了2.5萬美元簽署和解協(xié)議，協(xié)議規(guī)定Patent Armory Inc.不會再以和解協(xié)議項下專利（包含其在美國專利及商標局系統(tǒng)登記的全部專利）對思看科技提起任何訴訟或賠償要求。

同月，Patent Armory Inc.提交撤訴申請，并且美國得克薩斯州東部地區(qū)法院馬歇爾分區(qū)作出了批準本案撤訴的裁決。

問題二：核心技術來源

多年來，國內高精度工業(yè)三維數(shù)字化掃描設備主要依賴進口。2015年4月，思看科技成立初期便推出第一代HSCAN手持激光三維掃描儀，打破了國外企業(yè)壟斷局面。

鑒于思看科技曾引入浙江大學原副教授顧宗華以及與杭州鼎熱科技有限公司、浙江工業(yè)大學存在合作研發(fā)、委托研發(fā)的情況，上市委問詢十分關注其技術來源問題及持續(xù)研發(fā)能力問題。

思看科技表示，公司具備獨立可持續(xù)的研發(fā)能力，其核心技術均由自主研發(fā)取得，技術來源合法合規(guī)。報告期內，思看科技不斷加大研發(fā)投入，注重培育創(chuàng)新動力。

據(jù)思看科技回復顯示，2021年至2023年，思看科技的研發(fā)費用分別為2331.77萬元、3672.15萬元及4830.08萬元，呈逐年上升趨勢，分別占當期營業(yè)收入的14.48%、17.82%及 17.78%。

報告期內，思看科技研發(fā)人員數(shù)量分別為68人、89人和121人，其中2023年末研發(fā)人員占總人數(shù)的34.97%。同時，思看科技對部分研發(fā)人員進行股權激勵，公司的核心技術人員及其他重要研發(fā)人員均可保持長期穩(wěn)定。

問題三：專利授權許可給競爭對手

蔡司高慕是三維視覺數(shù)字化行業(yè)中以固定拍照式產品為核心的全球領先企業(yè)。2019年，思看科技與蔡司高慕開展合作，主要內容為向蔡司高慕提供便攜式激光3D掃描儀的ODM業(yè)務。

伴隨著激光3D掃描產品全球市場的持續(xù)擴大及應用范圍的不斷擴展，蔡司高慕決定自行獨立研發(fā)并生產手持式3D激光掃描儀，在2022年下半年結束與思看科技的合作協(xié)議，到期后不再續(xù)約。

2023年2月24日，思看科技與蔡司高慕簽署了一份專利授權協(xié)議，授權給蔡司高慕應用于 ODM 產品中的多波段掃描技術和內置攝影測量技術兩項技術系原理方法性專利。

上市委針對該情況，問詢專利授權許可給競爭對手的原因及合理性。

思看科技回復表示，授權蔡司高慕進行深入技術合作后可以借助蔡司高慕的渠道和影響力使得思看科技的市場認可度進一步提升，對思看科技后續(xù)在海外推廣自身產品更為便利。

同時，思看科技認為其與蔡司高慕之間的業(yè)務重點存在差異，并不構成激烈的直接競爭。并且思看科技在手持式激光三維掃描領域具有相對綜合優(yōu)勢，在技術上將在一定時期內維持優(yōu)勢地位。

（原標題：思看科技IPO：NPE訴訟和專利授權被問詢）

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

作者：斐斐

編輯：IPRdaily辛夷          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：思看科技IPO：NPE訴訟和專利授權被問詢（點擊標題查看原文）

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