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專利權(quán)利要求書:我的前半生與后半生!

專利
豆豆8年前
專利權(quán)利要求書:我的前半生與后半生!

專利權(quán)利要求書:我的前半生與后半生!

#本文由作者授權(quán)發(fā)布,文章僅代表作者觀點(diǎn),不代表IPRdaily立場(chǎng)#


來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

作者:王梨華  浙江杭知橋律師事務(wù)所 專利代理人   知產(chǎn)團(tuán)

原標(biāo)題:專利權(quán)利要求書:我的前半生


我的專利一生,不念過(guò)去,不畏將來(lái)~


前半生:idea的產(chǎn)生到專利授權(quán)

后半生:專利侵權(quán)到專利over


前半生:獨(dú)立權(quán)利撰寫的越細(xì)致

后半生:維權(quán)時(shí)由于獨(dú)立權(quán)利要求過(guò)于細(xì)致,導(dǎo)致技術(shù)特征過(guò)多,被控產(chǎn)品全部符合所有技術(shù)特征的難度越大,不落入專利保護(hù)范圍導(dǎo)致不侵權(quán)。


前半生:權(quán)利要求不清楚,使用自創(chuàng)技術(shù)術(shù)語(yǔ)。

后半生:自創(chuàng)技術(shù)術(shù)語(yǔ),公眾無(wú)法了解其內(nèi)容,導(dǎo)致法院無(wú)法確定范圍,無(wú)法進(jìn)行比對(duì),直接駁回原告起訴。


前半生:多個(gè)創(chuàng)新點(diǎn)僅寫一個(gè)專利的權(quán)利要求。

后半生:因省錢等原因,將多個(gè)創(chuàng)新點(diǎn)或創(chuàng)新部件的整套設(shè)備或工藝,僅寫一個(gè)專利,而未分開(kāi)多個(gè)專利進(jìn)行申請(qǐng),導(dǎo)致一個(gè)專利內(nèi)容過(guò)多,雖然審批通過(guò)率高,但另外一面是保護(hù)的反而不全面,容易被規(guī)避。一般較好的建議為,一個(gè)創(chuàng)新點(diǎn)單獨(dú)申請(qǐng)一個(gè)專利,多個(gè)創(chuàng)新點(diǎn)申報(bào)多個(gè)專利,形成專利地雷池,規(guī)避難度較大。


前半生:要求優(yōu)先權(quán),卻任意改變和添加內(nèi)容。

后半生:由于優(yōu)先權(quán)要求不能超過(guò)原來(lái)文本的內(nèi)容,任意改變或添加內(nèi)容不僅不能要求到優(yōu)先權(quán),反而優(yōu)先權(quán)文件有成為了現(xiàn)有技術(shù)或者抵觸申請(qǐng)文件來(lái)破壞在后專利的新穎性和創(chuàng)造性,導(dǎo)致專利被無(wú)效。


前半生:權(quán)利要求選用功能性技術(shù)特征,說(shuō)明書卻未記載具體實(shí)施方式。

后半生:功能性技術(shù)特征的保護(hù)范圍為說(shuō)明書具體實(shí)施方式及其等同方式,而說(shuō)明書又未記載具體實(shí)施方式,導(dǎo)致功能性技術(shù)特征的技術(shù)手段不清楚,保護(hù)范圍不明確,無(wú)法進(jìn)行侵權(quán)比對(duì)而導(dǎo)致駁回起訴。


前半生:不記載在權(quán)利要求中,卻寫在說(shuō)明書中的技術(shù)特征。

后半生:因未記載在權(quán)利要求中,而只記載在說(shuō)明書中的技術(shù)方案視為專利權(quán)人放棄的技術(shù)方案,稱為捐獻(xiàn)原則,不能納入專利保護(hù)。


前半生:實(shí)用新型專利使用非形狀和非構(gòu)造技術(shù)特征。

后半生:本身實(shí)用新型要求保護(hù)的為產(chǎn)品或結(jié)構(gòu),實(shí)用新型出現(xiàn)非形狀和非構(gòu)造技術(shù)特征,也對(duì)權(quán)利要求具有限定作用,在進(jìn)行侵權(quán)判定時(shí)要進(jìn)行考慮,且一般情況下嚴(yán)格限定等同的適用。


前半生:權(quán)利要求缺少必要技術(shù)特征。

后半生:由于缺少必要技術(shù)特征,無(wú)法實(shí)現(xiàn)技術(shù)效果,發(fā)明創(chuàng)造事實(shí)上是尚未完成的,理應(yīng)不能得到保護(hù),法院釋名要求被告提無(wú)效宣告中止審理,待無(wú)效宣告后再繼續(xù)審理。


前半生:獨(dú)立權(quán)利要求寫入過(guò)多的非必要技術(shù)特征。

后半生:由于太多非必要技術(shù)特征,導(dǎo)致專利權(quán)保護(hù)范圍過(guò)小,被控產(chǎn)品只要略微修改即可規(guī)避侵權(quán)。


前半生:權(quán)利要求的撰寫與實(shí)際提供的技術(shù)不符,權(quán)利要求撰寫錯(cuò)誤。

后半生:若權(quán)利要求技術(shù)特征表述的技術(shù)內(nèi)容不清楚的,可以澄清;如果存在缺陷的,可以進(jìn)行彌補(bǔ);如果權(quán)利要求技術(shù)特征之間存在矛盾的,可以修正。當(dāng)然這些前提是說(shuō)明書均給出了唯一的解釋,公眾能唯一推導(dǎo)出來(lái)的理解,否則,只能按錯(cuò)誤的技術(shù)方案進(jìn)行侵權(quán)比對(duì)。


前半生:方法權(quán)利要求過(guò)多限定了步驟順序。

后半生:方法權(quán)利要求人為地對(duì)某些步驟的順序進(jìn)行了不必要的限定,對(duì)保護(hù)范圍有實(shí)際影響,除非根據(jù)說(shuō)明書可以唯一推導(dǎo)出步驟的調(diào)整無(wú)實(shí)際影響的除外。


前半生:權(quán)利要求的撰寫過(guò)多記載使用環(huán)境特征。

后半生:權(quán)利要求寫入了過(guò)多的使用環(huán)境特征,且對(duì)使用環(huán)境進(jìn)行了詳細(xì)描述,導(dǎo)致侵權(quán)比對(duì)時(shí)無(wú)法忽略該使用環(huán)境特征,導(dǎo)致保護(hù)范圍過(guò)小。


前半生:審查程序時(shí),獨(dú)立權(quán)利要求非因新穎性或創(chuàng)造性的原因需要修改,而專利權(quán)人簡(jiǎn)單地將從屬權(quán)利要求合并如獨(dú)立權(quán)利要求盡快授權(quán)。

后半生:由于簡(jiǎn)單地將從屬權(quán)利要求合并到獨(dú)立權(quán)利要求導(dǎo)致獨(dú)立權(quán)利要求進(jìn)一步縮小保護(hù)范圍,維權(quán)不利。


前半生:答復(fù)審查意見(jiàn)時(shí)為了權(quán)利要求能授權(quán)無(wú)故對(duì)技術(shù)特征進(jìn)行限制性解釋。

后半生:答復(fù)審查意見(jiàn)對(duì)權(quán)利要求做的任何限制性解釋都將限制專利權(quán)的保護(hù)范圍,導(dǎo)致禁止反悔原則的適用而無(wú)法等同侵權(quán)。



來(lái)源:IPRdaily中文網(wǎng)(IPRdaily.cn)

作者:王梨華  浙江杭知橋律師事務(wù)所 專利代理人   知產(chǎn)團(tuán)

編輯:IPRdaily 趙珍  /   校對(duì):IPRdaily   縱橫君


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