國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

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原標(biāo)題：國外局部外觀設(shè)計申請視圖簡介

局部外觀設(shè)計，是指對產(chǎn)品的某一局部作出的創(chuàng)新設(shè)計。我國在第四次專利法修改中引入了局部外觀設(shè)計保護制度，為了讓廣大創(chuàng)新主體增加對局部外觀設(shè)計的了解，本文對國外局部外觀設(shè)計的申請視圖的提交情況做簡要介紹。

雖然各局對于申請視圖的提交規(guī)定不盡相同，但是，在局部外觀設(shè)計申請視圖的提交方式上，美國、日本、韓國及WIPO均允許以下兩種提交方式：

一、采用虛線與實線結(jié)合的方式。實線繪制的為保護的部分，虛線繪制的為不保護的部分。

1. 申請?zhí)枺篣S29708708

國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

2. 申請?zhí)枺篕R30-2014-0006250

國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

3. 申請?zhí)枺篔PD2015-13645

國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

二、采用半透明涂覆的方式。未覆蓋的為保護的部分，覆蓋的為不保護的部分。

1. 申請?zhí)枺篔PD2007-24187

國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

2. 申請?zhí)枺篍M000220405-0006

國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

值得注意的是，雖然申請視圖的提交方式不同，但是，申請視圖中均既包含了需要保護的局部設(shè)計，同時，也包含了該局部所在的整體產(chǎn)品，僅僅是通過不同的繪制或者處理方式將保護與不保護的部分加以區(qū)分；同時，申請視圖中也均充分、清楚地顯示了要求保護的產(chǎn)品的了局部外觀設(shè)計，以明確其保護范圍。為了進一步明確保護范圍，部分國家還要求申請人在其他文件中對于視圖加以說明，比如日本及韓國均規(guī)定需要在其他文件中通過文字明確請求保護的部分。

以上是筆者對于國外局部外觀設(shè)計申請視圖主要提交形式的簡要介紹，希望本文可以為創(chuàng)新主體向國外申請局部外觀設(shè)計提供參考借鑒。

來源：專利局外觀設(shè)計審查部微信

編輯：IPRdaily王穎校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）（點擊標(biāo)題查看原文）

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國外局部外觀設(shè)計申請視圖（簡介）

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