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專利申請(qǐng)修改超范圍與專利保護(hù)「禁止反悔原則」適用

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豆豆7年前
專利申請(qǐng)修改超范圍與專利保護(hù)「禁止反悔原則」適用

專利申請(qǐng)修改超范圍與專利保護(hù)「禁止反悔原則」適用

#本文由作者授權(quán)發(fā)表,未經(jīng)許可,禁止轉(zhuǎn)載,不代表IPRdaily立場(chǎng)#


原標(biāo)題:果林微案丨專利申請(qǐng)修改超范圍與專利保護(hù)“禁止反悔原則”適用


案號(hào):(2017)粵73民初263號(hào)


關(guān)鍵詞:專利侵權(quán)、權(quán)利要求解釋、禁止反悔原則、專利申請(qǐng)修改


案情簡(jiǎn)介


大自達(dá)電線股份有限公司是專利號(hào)為ZL200880101719.7、名稱為“印刷布線板用屏蔽膜以及印刷布線板”(以下簡(jiǎn)稱“涉案專利”)發(fā)明專利權(quán)人。2017年1月,大自達(dá)公司向廣州知識(shí)產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟,訴稱廣州方邦電子股份有限公司未經(jīng)其許可,擅自大量制造、銷售、許諾銷售侵害原告專利權(quán)的8款屏蔽膜產(chǎn)品,獲利巨大,給原告造成了巨大的經(jīng)濟(jì)損失,訴請(qǐng)法院判令廣州方邦公司立即停止涉案產(chǎn)品的生產(chǎn)銷售,并賠償經(jīng)濟(jì)損失9000余萬(wàn)元。


經(jīng)查,涉案專利在其申請(qǐng)過(guò)程中曾進(jìn)行過(guò)以下修改:


原始申請(qǐng)權(quán)利要求:1.一種印刷布線板用屏蔽膜,其特征在于,具有在絕緣層的單面表面形成的第一金屬層,所述絕緣層的單面表面的算術(shù)平均粗糙度(JIS B 0601(1994年))是0.5~5.0μm,并且,所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成。


申請(qǐng)人主動(dòng)修改:原權(quán)利要求1修改為權(quán)利要求8,修改后的權(quán)利要求8內(nèi)容為:8.一種印刷布線板用屏蔽膜,其特征在于,具有:?jiǎn)蚊姹砻娴乃阈g(shù)平均粗糙度(JIS B0601(1994年))是0.5~5.0μm的絕緣層;在所述絕緣層的所述單面表面形成的第一金屬層,所述第一金屬層的兩面沿著所述絕緣層的所述單面表面形成。


針對(duì)審查員發(fā)出的“修改后的權(quán)利要求8不符合專利法第33條的規(guī)定”及“算術(shù)平均粗糙度(JIS B0601(1994年)表述不清楚”的審查意見(jiàn),申請(qǐng)人將上述主動(dòng)修改文本進(jìn)行了多次修改,最終授權(quán)文本中的專利權(quán)利要求8的內(nèi)容如下:


8.一種印刷布線板用屏蔽膜,其特征在于,具有:?jiǎn)蚊姹砻娴乃阈g(shù)平均粗糙度是0.5~5.0μm的絕緣層;在所述絕緣層的所述單面表面形成的第一金屬層,其中,所述算術(shù)平均粗糙度是由1994年的JIS B 0601 標(biāo)準(zhǔn)定義的算術(shù)平均粗糙度,所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成。


本案中,大自達(dá)公司以涉案專利的權(quán)利要求8、9、10主張專利保護(hù),并委托相關(guān)司法鑒定機(jī)構(gòu)就被訴侵權(quán)產(chǎn)品與涉案專利的權(quán)利要求8-10上記載的技術(shù)特征是否相同或者等同進(jìn)行鑒定,鑒定意見(jiàn)為肯定性結(jié)論。


廣州方邦公司辯稱,被訴侵權(quán)產(chǎn)品的第一金屬層并未包含權(quán)利要求8中“第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”的技術(shù)特征,故被訴侵權(quán)技術(shù)方案不落入涉案專利權(quán)的保護(hù)范圍。


裁判結(jié)果


一審法院經(jīng)審理認(rèn)定:根據(jù)涉案專利說(shuō)明書(shū)及其申請(qǐng)過(guò)程中的修改及意見(jiàn)答復(fù)內(nèi)容,可以確定涉案專利權(quán)利要求8中第一金屬層的“波紋結(jié)構(gòu)”,應(yīng)當(dāng)指的是具有周期性的、基本平滑的、朝著一個(gè)方向連續(xù)高低起伏波動(dòng)的結(jié)構(gòu),不應(yīng)當(dāng)包括隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)。而被訴侵權(quán)產(chǎn)品的第一金屬層的結(jié)構(gòu)為隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu),與涉案專利權(quán)利要求8的波紋結(jié)構(gòu)既不屬于相同特征、也不屬于等同特征,因此被訴侵權(quán)技術(shù)方案未落入涉案專利權(quán)的保護(hù)范圍。鑒定人在對(duì)權(quán)利要求8所涉的“波紋結(jié)構(gòu)”進(jìn)行理解時(shí),由于缺少了專利審查檔案,對(duì)“波紋結(jié)構(gòu)”與“連續(xù)的凹凸形結(jié)構(gòu)”的區(qū)分存在偏差,鑒于此,對(duì)于涉案鑒定意見(jiàn)關(guān)于被鑒定物包含與涉案專利權(quán)利要求8-10記載的全部技術(shù)特征相同的技術(shù)特征的結(jié)論不予采納。


據(jù)此,一審法院判決駁回大自達(dá)公司的全部訴訟請(qǐng)求。


法律評(píng)析


本案的主要爭(zhēng)議焦點(diǎn)在于:如何解釋涉案專利權(quán)利要求8中“第一金屬層以波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”這一技術(shù)特征,以確定原告涉案專利權(quán)的保護(hù)范圍。在此基礎(chǔ)上,才能進(jìn)一步討論被訴侵權(quán)技術(shù)方案是否包含與“第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”這一技術(shù)特征相同或等同的技術(shù)特征,從而確定被訴侵權(quán)技術(shù)方案是否落入原告涉案專利權(quán)的保護(hù)范圍。


問(wèn)題一:如何界定專利權(quán)保護(hù)范圍?


專利法第五十九條:發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn),說(shuō)明書(shū)及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。


《最高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問(wèn)題的解釋》第三條:人民法院對(duì)于權(quán)利要求,可以運(yùn)用說(shuō)明書(shū)及附圖、權(quán)利要求書(shū)中的相關(guān)權(quán)利要求、專利審查檔案進(jìn)行解釋。說(shuō)明書(shū)對(duì)權(quán)利要求用語(yǔ)有特別界定的,從其特別界定。以上述方法仍不能明確權(quán)利要求含義的,可以結(jié)合工具書(shū)、教科書(shū)等公知文獻(xiàn)以及本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的通常理解進(jìn)行解釋。


依據(jù)以上現(xiàn)行規(guī)定,在進(jìn)行專利保護(hù)范圍的界定時(shí),應(yīng)依次按以下次序進(jìn)行:


1、閱讀權(quán)利要求書(shū),列示權(quán)利要求所描述的技術(shù)方案的所有技術(shù)特征;


2、權(quán)利要求中如有部分技術(shù)特征不足夠清晰明確時(shí),可通過(guò)閱讀說(shuō)明書(shū)和附圖對(duì)其進(jìn)行界定和解釋;必要時(shí),結(jié)合專利審查檔案進(jìn)行界定;


3、如仍不明確,則可按照工具書(shū)、教科書(shū)等公知文獻(xiàn)以及本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)該技術(shù)特征含義的通常理解,予以確定。


在依據(jù)專利審查檔案進(jìn)行權(quán)利要求解釋時(shí),通過(guò)核查專利審查檔案的內(nèi)容,可以明確申請(qǐng)人在專利申請(qǐng)過(guò)程中對(duì)于專利權(quán)保護(hù)范圍所作的真實(shí)意思表示,確定國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局與申請(qǐng)人在劃定專利權(quán)邊界上達(dá)成了何種一致的意見(jiàn),并對(duì)社會(huì)公眾形成了何種公示作用,從而使法院認(rèn)定的專利權(quán)保護(hù)范圍符合專利權(quán)產(chǎn)生時(shí)所公示的邊界,符合國(guó)家授予、保護(hù)這種專有性、壟斷性權(quán)利的初衷,如此才能為社會(huì)公眾提供明確的法律預(yù)期,避免不當(dāng)壓縮社會(huì)公眾對(duì)于公有技術(shù)自由運(yùn)用的空間。 此時(shí),最常采用的就是禁止反悔原則,即:專利申請(qǐng)人在申請(qǐng)授權(quán)審查過(guò)程中明確放棄的內(nèi)容,不得再納入授權(quán)后專利保護(hù)范圍內(nèi)。


問(wèn)題二:本案應(yīng)適用禁止反悔原則嗎?


本案中,原始專利申請(qǐng)文件中,對(duì)應(yīng)的技術(shù)特征表述為“第一金屬層以沿著所述絕緣層的單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”,與專利授權(quán)的該項(xiàng)技術(shù)特征在文字表述上并無(wú)區(qū)別。因此,從涉案專利形式上來(lái)說(shuō),正如大自達(dá)公司所主張的,申請(qǐng)人的一系列修改只是將權(quán)利要求恢復(fù)到原始申請(qǐng)文件的狀態(tài),并未表示要放棄某些技術(shù)方案。


但是,在涉案專利申請(qǐng)授權(quán)審查過(guò)程中,針對(duì)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局所指出的,“原申請(qǐng)文件僅記載了波紋結(jié)構(gòu)的第一金屬層和大致平坦結(jié)構(gòu)的第一金屬層兩種實(shí)施例,沒(méi)有給出第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結(jié)構(gòu),而且本領(lǐng)域技術(shù)人員也不能從原申請(qǐng)文件記載的內(nèi)容直接、毫無(wú)疑義地得到除了波紋和平坦方式以外的其他形成結(jié)構(gòu);……因此修改之后的權(quán)利要求8的技術(shù)方案和原技術(shù)方案相比有實(shí)質(zhì)性的區(qū)別,使得新的權(quán)利要求出現(xiàn)了原申請(qǐng)中沒(méi)有記載的新的技術(shù)方案,超出了原說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)記載的范圍”的審查意見(jiàn),專利申請(qǐng)人作出意見(jiàn)陳述,并將主動(dòng)修改后的權(quán)利要求8的相關(guān)技術(shù)特征特征,再次修改成“所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”。申請(qǐng)人陳述:通過(guò)上述修改,權(quán)利要求8的記載技術(shù)方案與原說(shuō)明書(shū)記載的內(nèi)容一致,能夠符合專利法第33條的規(guī)定。一審法院認(rèn)為,專利申請(qǐng)人的意見(jiàn)陳述以及再次修改技術(shù)特征的行為,應(yīng)當(dāng)視為原申請(qǐng)人同意了國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局相對(duì)應(yīng)的審查意見(jiàn),且該審查意見(jiàn)系結(jié)合說(shuō)明書(shū)的實(shí)施例進(jìn)行,因此,該審查意見(jiàn)所涉及的涉案專利申請(qǐng)中“波紋結(jié)構(gòu)”的界定結(jié)論,專利申請(qǐng)人已經(jīng)予以了同意和確認(rèn)?;诖?,本案有必要引入禁止反悔原則,充分考慮“因公示作用所產(chǎn)生的公信力,應(yīng)對(duì)于為劃定專利權(quán)邊界而進(jìn)行的技術(shù)特征的解釋產(chǎn)生影響”。


然而,如果需要適用禁止反悔原則,首先要確定專利申請(qǐng)人究竟確認(rèn)了什么,放棄了什么。


不可否認(rèn),專利申請(qǐng)人確認(rèn)其主動(dòng)修改的內(nèi)容超出了原申請(qǐng)文件記載范圍,亦確認(rèn)了原申請(qǐng)文件“沒(méi)有給出第一金屬層以其它方式(比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形)的形成結(jié)構(gòu),而且本領(lǐng)域技術(shù)人員也不能從原申請(qǐng)文件記載的內(nèi)容直接、毫無(wú)疑義地得到除了波紋和平坦方式以外的其他形成結(jié)構(gòu)”。但是,專利申請(qǐng)人客觀上并未就所述“波紋結(jié)構(gòu)”做任何放棄性的確認(rèn)。如何解釋“波紋結(jié)構(gòu)”,仍然要結(jié)合涉案專利的說(shuō)明書(shū)和附圖來(lái)進(jìn)行。


進(jìn)一步來(lái)說(shuō),如果要將修改超范圍的確認(rèn)用于專利保護(hù)范圍的禁止反悔,就需要討論, 申請(qǐng)文件原記載范圍是否就是專利保護(hù)范圍?


答案顯然是否定的。根據(jù)審查指南相關(guān)規(guī)定,修改超范圍的認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)明顯要比專利保護(hù)等同范圍的認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)嚴(yán)苛得多,兩者亦存在本質(zhì)差別。例如,原申請(qǐng)文件中記載了“鐵”,如果修改為“金屬”或“銅”,該修改會(huì)被認(rèn)定超出原申請(qǐng)文件記載范圍;然而,在進(jìn)行專利保護(hù)范圍界定時(shí),“銅”或其它金屬則可能會(huì)被認(rèn)定屬于與“鐵”等同的技術(shù)特征而被納入保護(hù)范圍。


一審法院在本案中努力避開(kāi)禁止反悔的字眼,而實(shí)質(zhì)上,仍然是在確定專利保護(hù)范圍即為原申請(qǐng)文件記載范圍這一錯(cuò)誤前提下,錯(cuò)誤適用了禁止反悔原則。


問(wèn)題三:如何基于專利說(shuō)明書(shū)進(jìn)行權(quán)利要求解釋?


本案中,一審法院在解釋爭(zhēng)議技術(shù)特征“波紋結(jié)構(gòu)”時(shí),讓自己陷入了泥潭。首先,依據(jù)專利說(shuō)明書(shū)所述發(fā)明目的、實(shí)施例及附圖,認(rèn)定“波紋結(jié)構(gòu)”指的是具有周期性的、基本平滑的、朝著一個(gè)方向連續(xù)高低起伏波動(dòng)的結(jié)構(gòu);接著,又依據(jù)上述禁止反悔的錯(cuò)誤前提,認(rèn)定“波紋結(jié)構(gòu)”不應(yīng)當(dāng)包括審查意見(jiàn)所指列的“連續(xù)的凹凸形結(jié)構(gòu)”,這時(shí)就不得不就“凹凸形結(jié)構(gòu)”再做解釋。本來(lái)不甚清晰的“波紋結(jié)構(gòu)”,越發(fā)不清晰了。


筆者并不認(rèn)為一審法院關(guān)于“波紋結(jié)構(gòu)指的是具有周期性的、基本平滑的、朝著一個(gè)方向連續(xù)高低起伏波動(dòng)的結(jié)構(gòu)”的認(rèn)定就是錯(cuò)誤的。這一認(rèn)定和解釋有其解釋依據(jù)和基礎(chǔ)。但是,法院進(jìn)一步認(rèn)定“波紋結(jié)構(gòu)不應(yīng)當(dāng)包括隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)”,卻沒(méi)有充分的說(shuō)理依據(jù)。


如前所述,即使專利權(quán)人曾在專利申請(qǐng)過(guò)程中確認(rèn)申請(qǐng)文件記載的“波紋結(jié)構(gòu)”與“連續(xù)的凹凸形結(jié)構(gòu)”系不相同的技術(shù)特征,但不能就此認(rèn)為“波紋結(jié)構(gòu)”的等同范圍必然不包括“隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)”。如果要做出這一認(rèn)定,還需要進(jìn)一步進(jìn)行等同范圍的判斷,這包括“三基本”的判斷,也包括等同后檢測(cè)是否已踏入現(xiàn)有技術(shù)范圍或缺少達(dá)到發(fā)明目的的必要技術(shù)特征等等。


綜上,在未完成上述等同論證的前提下,即認(rèn)定本案被訴侵權(quán)產(chǎn)品的第一金屬層的結(jié)構(gòu)屬于隨機(jī)變化的、無(wú)規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu),與涉案專利權(quán)利要求8的波紋結(jié)構(gòu)既不屬于相同特征、也不屬于等同特征,未免略顯倉(cāng)促。


本案二審結(jié)果如何,筆者拭目以待。


律師點(diǎn)睛


本案原告本來(lái)可以打個(gè)漂亮的專利狙擊戰(zhàn),卻因?yàn)樯姘笇@暾?qǐng)過(guò)程中的修改以及配合性意見(jiàn)陳述,讓涉案專利的專利保護(hù)范圍界定陷入泥沼。這也是諸多專利權(quán)人可能遭遇的專利陷落。


如何避免呢?本案告訴我們可能無(wú)法避免。專利一旦上了維權(quán)的戰(zhàn)場(chǎng),就得忍受放大鏡下的“雞蛋里挑骨頭”,專利申請(qǐng)過(guò)程中的任何瑕疵和不謹(jǐn)慎,在這時(shí)都會(huì)被放大幾百倍。一旦被告挑戰(zhàn)成功,專利權(quán)人的維權(quán)訴請(qǐng)會(huì)被駁回,維權(quán)專利也可能被宣告無(wú)效。無(wú)論哪一種,都是專利權(quán)人不想遇到的。唯有在專利申請(qǐng)時(shí)謹(jǐn)慎再謹(jǐn)慎,認(rèn)真再認(rèn)真,如此,才能減少專利陷落的概率。



來(lái)源:江蘇專利信息服務(wù)

作者:陳靜

編輯:IPRdaily趙珍          校對(duì):IPRdaily縱橫君


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