標(biāo)準(zhǔn)必要專利糾紛應(yīng)對調(diào)研問卷

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“現(xiàn)就標(biāo)準(zhǔn)必要專利糾紛應(yīng)對部分重點(diǎn)問題定向開展問卷調(diào)研，期待各界同仁的廣泛參與！”

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

為貫徹落實(shí)《知識產(chǎn)權(quán)強(qiáng)國建設(shè)綱要（2021—2035年）》《“十四五”國家知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)和運(yùn)用規(guī)劃》相關(guān)任務(wù)部署，中國貿(mào)促會商事法律服務(wù)中心開展標(biāo)準(zhǔn)必要專利糾紛應(yīng)對調(diào)研，為中國企業(yè)更好地參與標(biāo)準(zhǔn)必要專利許可和規(guī)則治理提出政策和公共服務(wù)的建議?，F(xiàn)就部分重點(diǎn)問題定向開展問卷調(diào)研，期待各界同仁的廣泛參與！

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（原標(biāo)題：標(biāo)準(zhǔn)必要專利糾紛應(yīng)對調(diào)研問卷）

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（iprdaily.cn）

編輯：IPRdaily辛夷          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：標(biāo)準(zhǔn)必要專利糾紛應(yīng)對調(diào)研問卷（點(diǎn)擊標(biāo)題查看原文）

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